二氧化硅消光粉高速膠體磨定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
二氧化硅消光粉高速膠體磨
光用二氧化硅膠體磨，二氧化硅消光粉膠體磨，消光粉濕法膠體磨，微納米二氧化硅德國膠體磨，粒度均勻超微消光粉膠體磨，管線式高速膠體磨，化工用消光粉膠體磨，立式分體消光粉膠體磨
二氧化硅消光粉外觀為白色分散性粉末狀或顆粒狀，廣泛應(yīng)用于涂料工業(yè)。通過對(duì)其粒徑大小、粒徑分布和表面性能的控制，消光粉能夠?yàn)椴煌耐苛虾陀∷⒂湍峁┏錾膯」庑ЧＯ夥劬哂泻芨叩南庑屎退谋砻媸指校骄叫∏壹小?/span>
在傳統(tǒng)膠體磨基礎(chǔ)上改進(jìn)，不僅使轉(zhuǎn)速由原來的3000轉(zhuǎn)提升到了14000轉(zhuǎn)，甚至是21000轉(zhuǎn)的超高轉(zhuǎn)速，細(xì)碎效果更好，作用效率更快，同時(shí)在結(jié)構(gòu)是除了原本有的細(xì)碎研磨功能以外，更增設(shè)了高速離心分散功能，使物料在細(xì)碎過后能夠更加穩(wěn)定的分散，不分層，不沉淀。 改進(jìn)型膠體磨依靠定轉(zhuǎn)子間間隙（間隙可調(diào)）使物料在通過研磨區(qū)域使受到強(qiáng)大的機(jī)械力、液力剪切、高頻振動(dòng)等多重力的物理作用，被高效快速的剪切剝離、分散、粉碎，隨后進(jìn)過第二級(jí)高速剪切分散盤再一次剪切細(xì)化分散、勻化，達(dá)到物料超細(xì)粉碎和分散勻化的效果。
研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。
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以下為型號(hào)表供參考：
型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量 L/H | 輸出轉(zhuǎn)速 rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度 m/s | 馬達(dá)功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
GM2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GM2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GM2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
GM2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GM2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
GM2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
二氧化硅消光粉高速膠體磨
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