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                  納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機(jī)

                  簡要描述:

                  納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。混懸液是指:以固體顆粒分散于分散媒中,顆粒與分散媒之間有相界面,稱為混懸液。

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                  納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機(jī)

                  一、產(chǎn)品概述

                  納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機(jī),混懸劑均質(zhì)機(jī),納米醫(yī)藥混懸液分散機(jī),納米高剪切分散機(jī),納米混懸液制備設(shè)備,納米混懸液分散機(jī),進(jìn)口分散機(jī),分散機(jī)廠家,分散機(jī)價(jià)格

                  二、產(chǎn)品簡介

                  納米醫(yī)藥混懸劑超高速剪切研磨均質(zhì)機(jī)設(shè)計(jì)*,能夠延長易損件的使用時(shí)間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用,也可以單獨(dú)使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。混懸液是指:以固體顆粒分散于分散媒中,顆粒與分散媒之間有相界面,稱為混懸液。

                  混懸液的貯存存在物理穩(wěn)定性問題。混懸液中藥物微粒分散度大 ,微粒與分散介質(zhì)之間存在著物理界面,是混懸微粒具有較高的表面自由能,混懸劑處于不穩(wěn)定狀態(tài)。疏水性藥物的混懸劑比親水性藥物存在更大的穩(wěn)定性問題。若要制得沉降緩慢的混懸液,應(yīng)減少顆粒的大小,增加分散劑的粘度及減少固液間的密度差。

                  納米醫(yī)藥混懸液分散機(jī),高剪切條件下的混懸液,高速通過工作腔定轉(zhuǎn)子間隙,由于轉(zhuǎn)子高速轉(zhuǎn)動(dòng),物料在定轉(zhuǎn)子間隙內(nèi),高速撞擊、剪切等綜合效應(yīng),將較大的顆粒粉碎成很小的微粒,它們的直徑在0.01-2μm范圍內(nèi)。這個(gè)純粹的物理過程保持產(chǎn)品原有的活性,與此同時(shí),細(xì)化了顆粒,獲得相對穩(wěn)定的混懸液。

                  三、納米高剪切分散機(jī)的特點(diǎn)

                  1具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

                  2該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的分散混合。

                  3三級分散機(jī)由定、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

                             

                  GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

                  yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

                  第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

                   

                  四、GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
                   

                  型號(hào)

                  流量

                  L/H

                  轉(zhuǎn)速

                  rpm

                  線速度

                  m/s

                  功率

                  kw

                  入/出口連接

                  DN

                  GMD2000/4

                  300

                  9000

                  23

                  2.2

                  DN25/DN15

                  GMD2000/5

                  1000

                  6000

                  23

                  7.5

                  DN40/DN32

                  GMD2000/10

                  2000

                  4200

                  23

                  22

                  DN80/DN65

                  GMD2000/20

                  5000

                  2850

                  23

                  37

                  DN80/DN65

                  GMD2000/30

                  8000

                  1420

                  23

                  55

                  DN150/DN125

                  GMD2000/50

                  15000

                  1100

                  23

                  110

                  DN200/DN150

                   

                  流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

                   

                  產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 超高速剪切研磨均質(zhì)機(jī) 納米醫(yī)藥混懸液分散機(jī) 納米混懸液制備設(shè)備 進(jìn)口分散機(jī) 納米高剪切分散機(jī)

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